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台積電法說會16日登場 傳半導體龍頭廠高層將再訪台

台積電2025年首場法說會16日登場,艾司摩爾(ASML)執行長「克里斯多夫·富凱」(Christophe Fouquet)率高層訪台,討論極紫外光(EUV)設備發展、下世代機台規劃及美國新政府政策等議題。艾司摩爾高數值孔徑極紫外(High-NA EUV)微影設備產能可達每小時185片,英特爾、三星規劃採用,台積電最快將於A14P小量採購練兵,A10製程大規模使用。富凱直言,中國晶片製程落後業界1
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