光罩 EUV 概念股是什麼？ 解析未來半導體產業關鍵技術

袋鼠金融導讀｜半導體產業一直是當代科技發展的核心驅動力, 各國政府與企業無不虎視眈眈, 力求在這個領域取得領先地位。隨著摩爾定律漸漸失效, 光罩 EUV (Extreme Ultraviolet) 技術成為業界的新寵兒, 被視為突破現有製程極限的唯一出路。本文將深入剖析光罩 EUV 的內涵、應用領域、市場現況、未來發展趨勢, 以及相關概念股公司, 讓投資人把握先機。如果想了解更多科技相關個股、概念股或 ETF 的詳細分析介紹，可以參考我們的Micro LED 概念股、 光源管理 IC 概念股、電源管理 IC 概念股。

光罩 EUV 是什麼 

光罩 EUV 是指在半導體製程中使用極紫外線 (EUV) 光源, 透過特製精密光罩在矽晶片上曝光製造奈米級電路圖案的技術。相較於傳統的 193nm 光刻, EUV 採用更短的 13.5nm 波長, 可精確製造 7nm 以下的晶體管結構, 突破現有製程的極限。

不過, EUV 曝光機的研製過程相當困難, 不僅需要十足的真空環境, 還要使用高度純淨的光學鏡片與遮罩, 防止微小的污染物影響元件製程。光罩是 EUV 光刻過程中關鍵的組件之一, 需要採用特殊材料製造且表面平整度需達 0.1nm 的水準, 遠比傳統光罩的要求嚴格。

光罩 EUV 常見應用領域 目前, 光罩 EUV 技術主要應用於半導體製造領域, 可望推動高效能運算 (HPC)、人工智慧 (AI)、物聯網 (IoT) 等領域的進步。半導體業者紛紛加入 EUV 製程的行列, 包括台積電、三星、英特爾等大廠。

除了半導體之外, EUV 技術未來還可拓展至無線通訊、太空探測、生物醫學等前沿科技領域。例如在 5G 通訊上, EUV 製程可製造出更小的射頻電路, 提升訊號傳輸效率;在太空領域, EUV 可用於製造高分辨率的太空望遠鏡鏡片;在生物醫學上, 則可望應用於細胞成像等尖端技術。

光罩 EUV 市場現況 

根據市場研究機構 Yole Development 的數據, 2022 年全球 EUV 光刻機市場規模達 57.1 億美元, 預計到 2030 年將成長至 291.4 億美元, 年複合成長率高達 22.6%。儘管 EUV 技術的商業化之路蓄勢待發, 但仍面臨諸多挑戰, 例如光源功率不足、元件污染控制等, 業者必須持續投入研發資金克服困難。

主要的 EUV 光刻機供應商包括荷蘭的 ASML 控股公司、日本的尼康和Canon 等廠商。ASML 目前在 EUV 光刻機領域佔有主導地位, 2022 年營收高達 219 億歐元。除了光刻機本身,上游的光罩製造設備與檢測設備供應商, 也將從 EUV 浪潮中獲益。

光罩 EUV 的未來發展 

為突破 EUV 技術的瓶頸, 未來研發重點包括:

1. 提升光源功率: 目前 EUV 光源的輸出功率約 300W, 仍需提升至 1000W 以上才能實現高產能。
   
   
2. 改善光學設計: 提高光刻機的數值孔徑 (NA),增加成像解析度。
   
   
3. 研發新型材料: 開發低吸收、高反射率的光罩與光學鏡片材料。
   
   
4. 加強環境控制: 確保光路區域的高真空度,避免殘留污染物。
   
   
5. 提升量測技術: 精確掌控製程參數,確保良率。
   
   
6. 系統整合優化: 整合光源、光學投射、遮罩對準等子系統。
   

除了硬體設備,量測技術及系統整合能力也是必要關鍵。長期而言,隨著半導體製程朝向 3nm、2nm 發展, 光罩 EUV 的需求勢必與日俱增。

光罩 EUV 概念股公司 

基於上游光罩設備與下游製程需求, 以下幾家公司都是 EUV 技術的受益者:

光罩 EUV 概念股主要公司
公司名稱	代碼	業務內容
家登	3680	提供光罩儲存設備，使用獨立儲位搭配專利的充氣盤面，穩壓、連續充氣的設計，降低光罩微污染風險，確保高精度製程的穩定性，並提升光罩的使用壽命。
帆宣	6196	提供 EUV 光偵測器響應標準與校正服務，EUV 光阻檢測設備與材料特性量測等技術移轉項目，確保光阻材料性能的穩定性，並提升整體製程的精度和效率。
公準	3178	提供 EUV 光測試設備等技術支援項目，包括精密光學元件的測試與校準服務，確保光學系統在高精度製程中的可靠性，並提升產品良率和生產效率。
意德士	7556	提供 EUV 光罩檢測與修復設備開發等技術移轉項目，專注於光罩缺陷的檢測與修復，確保光罩品質，降低製程中的缺陷率，並延長光罩的使用週期。

此外,台積電、聯電、世界先進等台灣半導體龍頭公司在 EUV 製程方面也居於領先地位, 預計將是本土最大的 EUV 設備採購商。

光罩 EUV 面臨的挑戰

儘管光罩 EUV 被視為未來關鍵技術, 但仍面臨以下重大挑戰:

技術挑戰: 材料吸收、光源穩定性、光學設計等問題仍待克服。

高昂成本: EUV 光刻機單價數億元台幣起跳, 研發製造費用不菲。

市場競爭: 各大半導體廠為搶先佈局, 與設備商的競爭日趨白熱化。

技術標準化: 產業鏈需要統一的規範與認證機制, 確保製程相容性。

環境與安全: 需嚴格的真空環境及輻射防護要求,操作複雜且成本高昂。

技術移轉: 將 EUV 技術順利從研發階段移轉至產業化並商業化仍是一大挑戰。

人才短缺: EUV 屬新興技術,高階工程師與操作人員短缺情況嚴重。

光罩 EUV 投資風險 

研發進度遲緩

若技術突破步伐不如預期，將延宕商轉時程，影響投資回報，並可能導致市場對公司技術能力產生質疑。

資本支出超支

EUV 設備投資金額龐大，可能超出預算造成財務壓力，削弱公司競爭力，甚至影響其正常運營和長期發展。

產能周期波動

下游半導體需求若出現大起大落，將衝擊廠商獲利，影響市場信心，並可能導致生產計畫頻繁調整。

競爭者後起直追

領先者的技術優勢無法永存，恐遭其他業者急起直追，市場份額下降，進而影響公司長期競爭地位。

地緣政治風險

中美科技戰延燒，可能影響 EUV 產業鏈的發展腳步，增加經營不確定性，並可能導致關鍵技術和設備的供應中斷。

供應鏈中斷風險

關鍵零組件短缺或供應鏈阻塞，可能中斷生產線，導致交期延遲，進而影響客戶滿意度和公司聲譽。

環境法規風險

未來若環保法規收緊，EUV 製程的高能耗或污染問題將受到嚴格限制，增加合規成本，並可能迫使公司進行技術改造。

光罩 EUV 概念股總結

光罩 EUV 技術被視為下一代半導體製程的最大獲利契機,也是維持摩爾定律持續演進的關鍵力量。儘管前景廣闊,但仍存在重重技術、商業化等挑戰,投資人需審慎評估相關製造設備與材料供應商的研發實力、資本支出規模、獲利穩定度等面向,把握投資時機並降低風險。我們期待光罩 EUV 技術能夠突破現有bottleneck,為下一波科技浪潮注入新的動能。

光罩 EUV 概念股常見問題